一、原子吸收光譜分析儀簡介
4520B原子吸收光譜儀分析精度高,人性化設計考慮周全,能夠充分滿足不同客戶的各種特異需求。并可根據不同的分析需求,選配石墨爐控制、自動進樣器、氫化物發生器等。
二、原子吸收光譜分析儀應用領域
可廣泛應用地質、冶金、醫學、化工、石油、農業、環保、商檢等行業。對微量和痕量元素的分析應用,近年來逐漸從無機化學向有機化學滲透。
三、配套產品
空心陰極燈,微波消解儀,超純水機,無油靜音空氣壓縮機。
四、原子吸收光譜分析儀性能特點
◆四燈位或六燈位可選,自動三維切換、能量平衡、多燈位同時預熱節約等待時間,可選擇氘燈扣背景與高性能元素燈。
◆儀器設置自動優化
儀器設置條件自動優化記憶功能、一鍵完成掃描尋峰。
◆數據報告多格式保存及打印輸出
方便數據查詢及對比。
◆儀器軟件讓操作更簡單
儀器軟件采用單界面多功能視窗設計,讓操作更簡單、實時監測數據變化、支持主流Windows操作系統、支持遠程操控及校準、中/英版本可選。
◆先進可靠的多重安全保護系統
自動檢測、報警、如壓力不足、漏氣、熄火等異常情況。
◆拓展及聯用功能
氫化物系統及石墨爐系統及聯用功能。
◆具有自動在線檢測功能
五、技術參數
主機 | |
電源 | AC 220V/50Hz |
功率 | 150W |
工作環境溫度 | 10℃~35℃ |
工作環境濕度 | ≤80% |
外觀尺寸 | 1000mm(長)×400mm(寬)×470mm(高) |
重量 | 70kg |
光學系統 | |
檢測器 | 日本濱松光電倍增管 |
波長范圍 | 185nm-900nm |
光柵刻線密度 | 1800條 |
單色器 | Czerny-Turner強化型 |
光譜帶寬 | 0.2nm、0.4nm、1.0nm、2.0nm多檔自動切換 |
波長示值誤差 | ≤±0.1nm |
波長重復性 | ≤±0.025nm |
基線漂移 | 0.003ABS/30min(靜態) 0.005ABS/15min(動態) |
分辨力 | 銅燈324.7nm波長,0.2nm帶寬,半寬度0.2nm±0.01nm之內 |
光源系統 | |
燈座 | 轉塔式全自動切換燈架 |
燈電源供電方式 | 400Hz,1/4占空比脈沖點亮 |
燈電流調節范圍 | (0~10mA)(平均電流)軟件調節 |
原子化系統 | |
特征濃度 | (Cu)0.025μg/mL /1% |
檢出限 | (Cu)0.006μg/mL |
燃燒器 | 0.5mm×100mm全鈦燃燒器 |
重復性 | RSD≤0.5% |
噴霧器 | 金屬套高效玻璃噴霧器 |
霧化室 | 耐腐蝕全塑霧化室 |
安全保護 | 具有多種自動安全保護功能,乙炔漏氣報警、關閉系統 |
分析方法 | |
測量方法 | 空氣-乙炔火焰法 |
濃度計算方式 | 線性回歸法自動擬合工作曲線,自動計算結果 |
重復測量次數 | 1~99次,自動計算平均值、含量,給出標準偏差和相對標準偏差 |
結果輸出 | 多格式數據保存及打印輸出 |
通訊接口 | 標準RS232,USB擴展接口 |
軟件環境 | Windows XP/Vista/Windows7操作系統,中文專業軟件 |
功能拓展 | 氫化物系統與石墨爐系統 |
InnovateT5型全譜直讀光譜儀采用國際標準的設計和制造工藝技術,應用了日本濱松公司進的CMOS信號采集元件,每塊CMOS都可以單獨設值火花個數,與國際光譜儀技術同步,采用真空光室設計及全數字激發光源。這款CMOS光譜儀,既包含了CCD光譜儀的全譜特性,又具備PMT光譜儀對非金屬元素的極低檢出限,整機設計合理,操作簡單易學,具有數據精準,長期穩定性好等優點。
應用范圍
冶金、鑄造、機械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業中的各種分析。
檢測基體
T5鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基等
技術參數
光學系統:帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學系統
波長范圍:140~680nm
光柵焦距:401mm
探 測 器:高性能CMOS陣列/CCD陣列
光源類型:數字光源,高能預燃技術(HEPS)
放電頻率:100-1000Hz
放電電流:500A
工作電源:AC220V 50/60Hz 1000W
儀器尺寸: 780*565*360mm
儀器重量: 78kg
檢測時間:依據樣品類型而定,一般20S左右
電極類型:鎢材噴射電極
分析間隙:4mm
其他功能:真空,溫度,軟件自動控制;壓力,通訊監測
儀器特點高性能光學系統
采用高精度的CMOS元件可精確測定非金屬元素如C、P、S、As、B、N以及各種金屬元素含量;測定結果精準,重復性及長期穩定性極佳。
自動光路校準
自動光路校準,光學系統自動進行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作;
儀器自動識別特定譜線與原存儲線進行對比,確定漂移位置,找出分析線當前的像素位置進行測定。
插拔式透鏡設計
真空光學系統采用獨特的入射窗與真空隔離,可在真空系統工作狀態下進行操作,光學透鏡采用插拔式透鏡結構,日常清洗維護方便快捷。
真空防返油技術
多級隔離的真空防返油技術,采用真空壓差閥門保證真空泵不工作時真空光室與真空完全隔離;中間增加了真空濾油裝置,確保真空泵中油不進入真空室,保障CMOS檢測器及光學元件在可靠環境中工作。
開放式激發臺
開放式激發臺機靈活的樣品夾設計,以滿足客戶現場的各種形狀大小的樣品分析;配合使用小樣品夾具,線材***低分析可達到3mm。
噴射電極技術
采用國際進的噴射電極技術,使用鎢材料電極,在激發狀態下,電極周圍會形成氬氣噴射氣流,這樣在激發過程中激發點周圍不會與外界空氣接觸,提高激發精度;配上獨特氬氣氣路設計,大大降低了氬氣使用量,也降低客戶使用成本。集成氣路模塊
氣路系統采用氣路模塊免維護設計,替代電磁閥和流量計,電極自吹掃功能,為激發創造了良好的環境。
數字化激發光源
數字激發光源,采用國際***為的等離子激發光源,超穩定能量釋放在氬氣環境中激發樣品;可任意調節光源的各項參數,滿足各種不同材料的激發要求。高速數據采集
儀器采用高性能CMOS檢測元件,具有每塊CMOS單獨超高速數據采集分析功能,并能自動實時監測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發室等模塊的運行狀態。
以太數據傳輸
計算機和光譜儀之間使用以太網卡和TCP/IP協議,避免電磁干擾,光纖老化的弊端,同時計算機和打印機完全外置,方便升級和更換;可以遠程監控儀器狀態,多通路操控系統控制和監控所有的儀器參數。預制工作曲線
備有不同材質和牌號的標樣庫,儀器出廠時工廠預制工作曲線,方便安裝調試和及時投入生產;根據元素和材質對應的分析程序而稍有差異,激發和測試參數儀器出廠時已經調節好,根據分析程序可自動選擇***優測試條件。分析速度快
分析速度快,僅需20秒即可完成一次分析;針對不同的分析材料,通過設置預燃時間及測量時間,使儀器用***短時間達到***優的分析效果。
多基體分析
光路設計采用羅蘭圓結構,檢測器上下交替排列,保證接收全部的譜線,不增加硬件設施,即可實現多基體分析;便于根據生產的需要增加基體及材料種類和分析元素(無硬件成本)。軟件中英文系統
儀器軟件操作簡單,完全兼容于Windows7/8/10系統。
產品包裝