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EL X-01R、EL X-02 C、EL X-02 spec橢偏儀

 DRE公司設計的基于誤差修正的步進馬達和MinSearch算法基礎上的高精度橢偏儀,測量更為簡單、快速,而且結果更為。樣品的Alignment非常簡單,只需調整樣品臺下方的旋鈕,改變 Light Angle Light Intensity,并借助四象限探測器在計算機屏幕上顯示的調整狀況,便可在不超過 30 秒鐘的時間內完成。無需經常做儀器校準。由于使用高精度的 Step Motor,且無需使用Reference Sample經常進行做儀器Calibration。可進行超薄膜(皮米級)的分析。可進行半導體Si Wafer 表面灰塵的分析,這是目前所有橢偏儀廠商中具備此項功能的一家。薄膜粗糙度 (Roughness) 的表征也是目前所有橢偏儀制造廠中獨具特色的一家?蛇M行變溫(液氮至400ºC)測量。快速Mapping測量。使用X-Y 樣品臺, 進行 1 /點的Mapping 或微秒/點的快速掃描。可分析 8" 甚至于 12" Si Wafer的厚度變化。可進行微區分析(激光焦斑的尺寸可達1微米)。應用范圍非常廣泛:如Si襯底上的SiO2SixNy薄膜,光電子涂層,各種磁性薄膜,平板顯示工業的 ITO薄膜和薄膜晶體管的結構,生物和化學工業的各種有機層、分子膜,光觸媒用TiO2 薄膜分析,鋁熱交換器表面抗氧化薄膜,奔馳汽車引擎或汽缸激光焊接前的清潔薄膜分析等。同時,提供多種光譜儀選擇,如回轉檢偏器橢偏儀(RAE),高精度橢偏儀,消光型橢偏儀(Null Ellipsometer),光譜型橢偏儀(Spectroscopic Ellipsometer190~2400 nm,可選),超高精度傳動橢偏儀等。

橢偏儀

膜厚范圍:0-30000nm 折射指數:± 0.0001 厚度度:± 0.01nm

SE200光譜橢偏儀

產品指標:、

波長范圍:250nm到1100 nm

光斑尺寸:1mm至5mm

樣品尺寸:直徑可達200mm

測量厚度范圍:10μm

測量時間:約1秒/位置點

入射角范圍:20到90度,5度間隔

重復性誤差:小于1 Ǻ

  
應用領域 

·   半導體制造(PR,Oxide, Nitride..
·   光學涂層,TiO2, SiO2, Ta2O5... ..
·   液晶顯示(ITOPRCell gap... ..
·  薄膜晶體管TFT上的層堆疊
·  醫療器械上的涂層
·   用在MEMS/MOEMS領域的功能性薄膜
·   非晶體,納米材料和結晶薄膜
·   薄金屬膜
 
 實現功能: 1 對于薄膜、涂層、大基底的光學常數(折射率n和消光系數k) 2 對于薄膜的非破壞性厚度測量。  3 對于各種薄膜中合金濃度的測定,例如SiGe合金中Ge的測定、AlGaN膜中Al的測定。 4 對于GaN、SiC、AlN、AlGaN等,它們帶隙的測定。 5 在低介電常數下測定薄膜的孔隙率。 6 測定納米復合材料中所含每種成分的體積比含量。  7 可以測定多層堆疊或者像量子阱結構的周期性結構中的每一層的物理厚度和光學特性。  8 對薄膜在密度或合金的濃度上的不均勻性進行分析  9 分析高介電常數薄膜的光學特性  10金屬薄膜、金屬化合物(例如WN、TiN、TaN等)、 摻雜半導體epi層(同時也決定了厚度)及其他的諸如ITO薄膜等復合氧化物的電導率進行無損檢測。  11摻雜半導體摻雜濃度的無損檢測

 

 

 
該公司產品分類: 恒流泵 恒壓恒流進樣泵 微流控

SE200BM型橢偏儀

產品特點:

  • 易于安裝
  • 基于視窗結構的軟件,很容易操作
  • 的光學設計,以確保能發揮出的系統性能
  • 能夠自動的以0.01度的分辨率改變入射角度
  • 高功率的DUV-VIS光源,能夠應用在很寬的波段內
  • 基于陣列設計的探測器系統,以確?焖贉y量
  • 最多可測量12層薄膜的厚度及折射率
  • 能夠用于實時或在線的監控光譜、厚度及折射率等參數
  • 系統配備大量的光學常數數據及數據庫
  • 對于每個被測薄膜樣品,用戶可以利用的TFProbe3.0軟件功能選擇使用NK數據庫、也可以進行色散或者復合模型(EMA)測量分析
  • 三種不同水平的用戶控制模式:專家模式、系統服務模式及初級用戶模式
  • 靈活的專家模式可用于各種獨特的設置和光學模型測試
  • 健全的一鍵按鈕(Turn-key)對于快速和日常的測量提供了很好的解決方案
  • 用戶可根據自己的喜好及操作習慣來配置參數的測量
  • 系統有著全自動的計算功能及初始化功能
  • 無需外部的光學器件,系統從樣品測量信號中,直接就可以對樣品進行精確的校準
  • 可精密的調節高度及傾斜度
  • 能夠應用于測量不同厚度、不同類型的基片
  • 各種方案及附件可用于諸如平面成像、測量波長擴展、焦斑測量等各種特殊的需求
  • 2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數據管理界面。

 

系統配置: 

  • 型號:SE200BM-M300
  • 探測器:陣列探測器
  • 光源:高功率的DUV-Vis-NIR復合光源
  • 指示角度變化:手動調節
  • 平臺:ρ-θ配置的自動成像
  • 軟件:TFProbe 3.2版本的軟件
  • 計算機:Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器
  • 電源:110–240V AC/50-60Hz,6A
  • 保修:一年的整機及零備件保修

 

基本參數:

  • 波長范圍:250nm到1000 nm
  • 波長分辨率: 1nm
  • 光斑尺寸:1mm至5mm可變
  • 入射角范圍:0到90度
  • 入射角變化分辨率:5度間隔
  • 樣品尺寸:最大直徑為300mm
  • 基板尺寸:最多可至20毫米厚
  • 測量厚度范圍*:0nm〜10μm
  • 測量時間:約1秒/位置點
  • 精確度*:優于0.25%
  • 重復性誤差*:小于1 Ǻ

 

應用領域:               

  • 半導體制造(PR,Oxide, Nitride..)
  • 液晶顯示(ITO,PR,Cell gap... ..)
  • 醫學,生物薄膜及材料領域等
  • 油墨,礦物學,顏料,調色劑等
  • 醫藥,中間設備
  • 光學涂層,TiO2, SiO2, Ta2O5... ..
  • 半導體化合物
  • 在MEMS/MOEMS系統上的功能性薄膜
  • 非晶體,納米材料和結晶硅

 

產品可選項:             

  • 用于反射的光度測量或透射測量
  • 用于測量小區域的微小光斑
  • X-Y成像平臺(X-Y模式,取代ρ-θ模式)
  • 加熱/致冷平臺
  • 樣品垂直安裝角度計
  • 波長可擴展到遠DUV或IR范圍
  • 掃描單色儀的配置
  • 聯合MSP的數字成像功能,可用于對樣品的圖像進行測量

111橢偏儀

 

【激光系列產品】
 
 固體激光器 半導體激光器 氣體激光器 離子激光器 光纖激光器 大功率光纖耦合激光器 皮秒激光器 飛秒激光器 調Q脈沖激光器 激光二極管控制器 激光功率計 激光護目鏡 激光波長測量 激光光束分析儀 多通道激光功率計 大功率激光器 激光光束位置測量儀 激光擴束鏡 激光準直器 紅外激光顯示卡 紅外激光觀察儀 紅外觀察儀 激光測距儀 激光器溫度控制器 激光光纖耦合器 高穩定性激光器 相干型激光器 自相關儀 飛秒激光倍頻器 可變光闌 便攜式激光器 染料激光器 激光光譜測量 熱電制冷片 激光光束定位系統 2微米光纖激光器 飛秒光纖激光器 皮秒光纖激光器 脈沖光纖激光器 光纖隔離器 拉曼激光器 光功率計
 
【光譜測試儀器】
 
 紫外可見光譜儀 便攜式光譜儀 高分辨率光譜儀 高靈敏度光譜儀 制冷型光譜儀 中紅外光譜儀 熒光光譜儀 拉曼光譜儀 極紫外光譜儀 真空紫外光譜儀 多通道光譜儀 教學型光譜儀 LED光測量光譜儀 色坐標色溫測量儀 燈具光譜測量儀 透射譜吸光度光譜儀 絕對輻射光譜儀 流體吸光度光譜儀 流體熒光光譜儀 膜厚測量儀 橢偏儀 太陽能電池IPCE測量系統 太陽能電池QE測量系統 太陽能電池光譜響應系統 單色儀 濾光片輪 濾光片透射率測試儀 太赫茲光譜儀 等離子體光譜儀 環境輻射儀 近紅外光譜儀 元素分析儀 氧含量測量 信號發生器 近紅外谷物接收系統 顆粒分析儀 熒光壽命光譜儀 三維表面輪廓儀
 
【光學精密機械】
 
 干涉儀 光學平臺 光學鏡架 手動平移臺 手動旋轉臺 手動擺動臺 手動組合平臺 電動平移臺 電動轉動臺 電動擺動平臺 電動組合平臺 壓電陶瓷平臺 壓電陶瓷制動器 高穩定防震平臺
 
【光源】
 
 氙燈光源 氘燈光源 氘鹵雙光源 LED光源燈 鹵素燈光源 光催化氙燈光源 積分球 積分球均勻光源 太陽模擬器 紫外固化機 寬帶超連續光源 顯微鏡光源
 
【光學影像】
 
 紫外CCD相機 近紅外CCD相機 制冷型CCD相機 高速相機   顯微鏡 CID相機 紅外相機/熱像儀
 
 
【光學元件】
 
 窗片/窗口 反射鏡 透鏡 光學基片 分光鏡 棱鏡 晶體 濾光片 波長板 擴散板 起偏器 光學鏡頭 光纖產品 光柵尺 光柵
 
【光通信儀器】
 
 ASE光源 光纖放大器 光通信激光器 光功率計 可調諧激光光源 光纖測量系統 光衰減器 光纖熔接機 光通信探測器 光調制器 SLED光源 SLED模塊 光源 高功率EDFA 光收發機 拉曼EDFA組合放大器 拉曼泵浦模塊 偏振光合束器 拉曼放大器
 
【生物分析儀器】
 

 動物注射泵 樣品均質器 粘合劑分配器 蠕動泵

橢偏儀

產品 >> 光譜測試儀器 >> 橢偏儀   共有 1 個產品
 

 
 
 
 
 
 
名稱: SpecEI橢偏儀
編號: 4716301416
 

【激光系列產品】 固體激光器  半導體激光器  氣體激光器  氬離子激光器  光纖激光器  大功率光纖耦合激光器  皮秒激光器  飛秒激光器  調Q脈沖激光器  激光二極管控制器  激光功率計  激光護目鏡  激光波長測量  激光光束分析儀  多通道激光功率計  大功率激光器  激光光束位置測量儀  激光擴束鏡  激光準直器  紅外激光顯示卡  紅外激光觀察儀  紅外觀察儀  激光測距儀  激光器溫度控制器  激光光纖耦合器  高穩定性激光器  相干型激光器  自相關儀  飛秒激光倍頻器  可變光闌  便攜式激光器  染料激光器  激光光譜測量  熱電制冷片  激光光束定位系統  視頻顯微鏡測量系統  2微米光纖激光器  飛秒光纖激光器  皮秒光纖激光器  脈沖光纖激光器  光纖隔離器  拉曼激光器  光功率計  飛秒激光脈沖自相關儀  激光二極管參數分析儀  激光二極管電流控制器 【光譜測試儀器】 光纖光譜儀  微型光纖光譜儀  高分辨率光譜儀  高靈敏度光譜儀  制冷型光譜儀  中紅外光譜儀  熒光光譜儀  拉曼光譜儀  極紫外光譜儀  真空紫外光譜儀  多通道光譜儀  教學型光譜儀  LED光測量光譜儀  色坐標色溫測量儀  燈具光譜測量儀  透射譜吸光度光譜儀  絕對輻射光譜儀  流體吸光度光譜儀  流體熒光光譜儀  膜厚測量儀  橢偏儀  太陽能電池IPCE測量系統  太陽能電池QE測量系統  太陽能電池光譜響應系統  單色儀  濾光片輪  濾光片透射率測試儀  太赫茲光譜儀  等離子體光譜儀  環境輻射儀  近紅外光譜儀  元素分析儀  氧含量測量  信號發生器  近紅外谷物接收系統  顆粒分析儀  熒光壽命光譜儀  三維表面輪廓儀  微型光譜儀 【光學精密機械】 干涉儀  光學平臺  光學鏡架  手動平移臺  手動旋轉臺  手動擺動臺  手動組合平臺  電動平移臺  電動轉動臺  電動擺動平臺  電動組合平臺  壓電陶瓷平臺  壓電陶瓷制動器  高穩定防震平臺 【光源】 氙燈光源  氘燈光源  氘鹵雙光源  LED光源燈  鹵素燈光源  光催化氙燈光源  積分球  積分球均勻光源  太陽模擬器  紫外固化機  寬帶超連續光源  顯微鏡光源 【光學影像】 紫外CCD相機  近紅外CCD相機  制冷型CCD相機  高速相機  夜視儀  顯微鏡  CID相機  熱像儀 【探測器】 照度計  亮度計  輻射計  便攜式色差計  太陽光功率計  快速反應探測器  前置放大探測器  光纖耦合探測器  液氮制冷探測器  皮秒超快探測器  位敏探測器  四象限探測器  雙色探測器  紫外輻照計  硅光電探測器  近紅外探測器  中紅外探測器  雪崩二極管  光電倍增管 【光學元件】 窗片/窗口  反射鏡  透鏡  光學基片  分光鏡  棱鏡  晶體  濾光片  波長板  擴散板  起偏器  光學鏡頭  光纖產品  光柵尺  紅外鏡頭  光柵 【光通信儀器】 ASE光源  光接收機  光纖放大器  光發射機  光通信激光器  光功率計  可調諧激光光源  光纖測量系統  光衰減器  光纖熔接機  光通信探測器  光調制器  傳感器解調儀  SLED光源  SLED模塊  多波段SLED光源  大功率EDFA  光收發機  激光發射機  拉曼EDFA組合放大器  拉曼泵浦模塊  偏振光合束器  拉曼放大器  保偏EDFA  摻鐿光纖放大器  摻鐿光纖放大器模塊  半導體光放大器  大功率光纖放大器  光接收機模塊  半導體光放大器模塊  40通道多路復用器  1064nm穩定的激光器光源  DWDM多路復用器  FBG光纖耦合激光器光源  FBG激光光源模塊  波長掃描激光器  單模背射儀  電控可變光衰減器  多波長儀  多通道可變光衰減器  光波元器件分析儀  光放大器分析儀  光網絡測試儀  光網絡分析儀  光纖干涉儀  回波損耗儀系統  可調諧光濾波器  色散補償模塊  微型光時域反射儀  蝶形激光器/DFB激光器  大功率蝶形激光器  寬帶RF放大器模塊  寬帶RF放大器  DFB蝶形激光器  DFB激光器模塊  DWDM光分插模塊  980nm泵浦激光器  ASE光源模塊  C+L波段ASE光源  CWDM 2mW DFB激光器  F-P激光器  保偏隔離器  大功率保偏隔離器  大功率光隔離器  光隔離器  光開關模塊  可調諧C波段激光器  外調制激光器  拉曼放大器泵浦激光器/EDFA泵浦激光器  便攜式光時域反射儀 【生物分析儀器】 動物注射泵  樣品均質器  粘合劑分配器  蠕動泵  搖擺振蕩器  細胞分離/勻漿漩渦混合器

供應橢偏儀/上海/蘇州/無錫/南京/天津/北京/武漢/西安

橢偏儀-----上海/蘇州/無錫/南京/天津/北京/武漢/西安/杭州/濟南/廣州

產品特點:

Ø 高品質之光學與電動元件,無需防震桌。 

Ø 燈泡更換容易,客戶可自行操作,無需校正。 

Ø FFT-在應用分析上,可除了橢圓儀原本的回歸分析,還增加了傅利葉的分析方式,可針對不同的材料與厚度使用,User使用上更為便利與快速.

Ø 具有Analyzer Tracking功能,可大幅提昇量測精度,與PEM之效果相同。

Ø 可搭配反射儀使用,可於日後Upgrade

Ø 可量測透明基板,無需背後處理。 

Ø Upgrade為 in line量測設備。

Ø 採用美國進口光譜儀,量測速度快。

Ø 使用步進馬達並非Rotating Polarizer,避免馬答損壞。 

Ø 固定量測角度-70度,可避移動時所造成的量測誤差與機械損害光學儀器都應減少移動。 

Ø 性價比極佳,品質及量測能力可達到世界水準,公司備有DEMO儀器,可供客戶實施操作比較。

技術參數:

波長範圍:350nm-1050nm

快速全自動量測 

精密量測膜厚及折射率 

各種功能材料的光學常數測量和光譜特性分析 

橢貨參數精度:  ≦0.01for Tan (ψ);  ≦0.01 for Cos (Δ

直接測量透明基板上之鍍膜,無需基板背面處理或染黑

量測范圍:15Å-severaol um

量測應用:         - 太陽能電池、LED鍍膜、新材料鍍膜        - TFT-LCD: SIOx,SiNx,a-Si:H,N+a-Si,Photo Resists...        - SEMI:         - High-k:Al2O3,SiO2,Si3N4,SiNX,HfO2,Ta2O5,ZrO2        - Low-k: SiOC,SiOF,SOG,BPSG …

具體型號及技術要求歡迎來電咨詢

聯系方式:

蘇州諾威特測控科技有限公司

Add:中國蘇州市高新技術開發區金楓南路198號

聯系人:鄒小姐

Tel:18913500435

Fax:

E-mail:info@novtec.hk

http://www.novtec.hk

公眾微信推薦:諾威特光伏(novteccs)諾威特汽車(novtecqc)諾威特光電(sznovtec)

該公司產品分類: 新能源汽車 智能倉儲系統 智能倉儲系統 倉儲系統 鋰電池自動分選 光譜儀 atlas 腐蝕試驗設備 反射儀 模擬器 橢偏儀 掃描儀 led 薄膜測厚儀 光伏組件測試 熱量分析儀 鹽霧實驗箱 紫外老化試驗箱 鹽霧試驗箱 試驗箱

SE200BA 橢偏儀

    

基本功能

1,測試單、多層透光薄膜的厚度、折射率以及吸收系數

2,薄膜均勻性測試以及模擬運算功能等

產品特點

l  強大的數據運算處理功能及材料NK數據庫;

l  簡便、易行的可視化測試界面,可根據用戶需求設置不同的參數;

l  快捷、準確、穩定的參數測試;

l  支持多功能配件集成以及定制;

l  支持不同水平的用戶控制模式;

l  支持多功能模擬計算等等。

系統配置

型號:SE200BM-M300

探測器:陣列探測器

光源:高功率的DUV-Vis-NIR復合光源

測量角度變化:軟件設置自動調節

平臺:ρ-θ配置的自動成像

軟件:TFProbe 3.2版本的軟件

計算機:Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器

電源:110–240V AC/50-60Hz,6A

保修:一年的整機及零備件保修

規格

波長范圍:250nm到1000 nm

波長分辨率: 1nm

光斑尺寸:1mm至5mm可變

入射角范圍:10到90度

入射角變化分辨率:0.01度

樣品尺寸:最大直徑為300mm

基板尺寸:最多可至20毫米厚

測量厚度范圍*:0nm~10μm

測量時間:約1秒/位置點

精確度*:優于0.25%

重復性誤差*:小于1 Ǻ

可選配件項

l  用于反射的光度測量或透射測量;

l  用于測量小區域的微小光斑;

l  用于改變入射角度的自動量角器;

l  X-Y成像平臺(X-Y模式,取代ρ-θ模式)

l  加熱/致冷平臺;

l  樣品垂直安裝角度計;

l  波長可擴展到遠DUV或IR范圍;

l  掃描單色儀的配置

l  聯合MSP的數字成像功能,可用于對樣品的圖像進行測量等。

應用領域

主要應用于透光薄膜分析類領域:

l  玻璃鍍膜領域(LowE、太陽能…)

l  半導體制造(PR,Oxide, Nitride…)

l  液晶顯示(ITO,PR,Cell gap...)

l  醫學,生物薄膜及材料領域等

l  油墨,礦物學,顏料,調色劑等

l  醫藥,中間設備

l  光學涂層,TiO2, SiO2, Ta2O5... ..

l  半導體化合物

l  MEMS/MOEMS系統上的功能性薄膜

l  非晶體,納米材料和結晶硅

 

等離子表面處理設備 生命科學儀器 表面分析儀器 電子測量儀器

EP3nanofilm呈像橢偏儀

[EP3] 德國nanofilm公司于1991年開發出了世界上臺Brewster角顯微鏡(BAM),該儀器主要用于薄層膜的觀察。近幾年來,nanofilm又相繼推出了不同用途的BAM產品以及相應的配套儀器,其款的EP3橢圓偏振成相系統把橢圓偏振法與顯微鏡法相結合,為其進入到生物分析和微電子等新的研究領域提供了可能。 應用領域: 橢圓光度法是一種非破壞性和無需標記的、用于確定膜厚和材料光學特性的方法。通過把橢圓光度法與顯微鏡法相結合,影像橢圓光度儀不斷改進,平面精度已經能夠達到1μm,立體精度已提高到1nm,為其進入到生物分析和微電子等新的研究區域提供了可能。EP3是德國nanofilm公司最近推出的新一代橢圓光度儀產品。主要應用于以下各種尖端領域: 生物芯片:同次性、膜厚、雜交、動力學等測量 LB/單層/自組合單層膜/活性劑:檢測LB膜的結構、單層膜厚度、界面吸附等 接觸印刷:小于1μm微結構的質量控制、膜厚測量、測量折射率和吸附 磁盤:同次性、膜硬度 (油)膜厚度、光學產品磁光學結果的觀察 納米粒子:納米粒子上的一小塊區域、折射率和吸附的分布 聚合物:膜厚、折射率和吸附測量 主要特點 采用高精度回零橢圓光度法 的空間分辨率(1μm), 大面積圖像橢圓光度法(多達若干cm2) 單一或多重的激光波長 新穎的自動測角計,用于入射角調整n EP3View專用軟件,用于儀器控制和基于Windows?的數據分析 多重關注區域及Δ,Ψ繪圖n 可通過局部網絡實現遠程控制和服務 技術參數 原理 PCSA 配置的自動回零( Auto-Nulling )圖像橢圓光度法 橢圓光度分辨率 Delta/Psi 精度 0.001 deg   絕對精度 0.01 deg (依賴于樣品與測量條件) 立體分辨率 1~35μm (平面解析精度: 1μm ,縱向解析精度: 1 nm ) 激光器波長 標準為 : 532 nm  可選 405, 488, 514, 543, 594, 633, 650, 690, 785, 830, 905, nm 靈敏度 0.05~0.2nm 解析時間 快, 22×73mm 在 1.2μm 精度下只需不到一分鐘的時間 圖像系統 768 x 572 像素 CCD 照相機 電子組件 內置基于 Pentium 芯片的控制器,帶 Matrox Meteor II 抓圖器; 內置 Linux 操作系統;通過專用 100M 以太網與主機相連 電源 電壓: 100 – 240 VAC, 50/60Hz 最大電流 : 10 A

EP3nanofilm呈像橢偏儀

[EP3] 德國nanofilm公司于1991年開發出了世界上臺Brewster角顯微鏡(BAM),該儀器主要用于薄層膜的觀察。近幾年來,nanofilm又相繼推出了不同用途的BAM產品以及相應的配套儀器,其款的EP3橢圓偏振成相系統把橢圓偏振法與顯微鏡法相結合,為其進入到生物分析和微電子等新的研究領域提供了可能。 應用領域: 橢圓光度法是一種非破壞性和無需標記的、用于確定膜厚和材料光學特性的方法。通過把橢圓光度法與顯微鏡法相結合,影像橢圓光度儀不斷改進,平面精度已經能夠達到1μm,立體精度已提高到1nm,為其進入到生物分析和微電子等新的研究區域提供了可能。EP3是德國nanofilm公司最近推出的新一代橢圓光度儀產品。主要應用于以下各種尖端領域: 生物芯片:同次性、膜厚、雜交、動力學等測量 LB/單層/自組合單層膜/活性劑:檢測LB膜的結構、單層膜厚度、界面吸附等 接觸印刷:小于1μm微結構的質量控制、膜厚測量、測量折射率和吸附 磁盤:同次性、膜硬度 (油)膜厚度、光學產品磁光學結果的觀察 納米粒子:納米粒子上的一小塊區域、折射率和吸附的分布 聚合物:膜厚、折射率和吸附測量 主要特點 采用高精度回零橢圓光度法 的空間分辨率(1μm), 大面積圖像橢圓光度法(多達若干cm2) 單一或多重的激光波長 新穎的自動測角計,用于入射角調整n EP3View專用軟件,用于儀器控制和基于Windows?的數據分析 多重關注區域及Δ,Ψ繪圖n 可通過局部網絡實現遠程控制和服務 技術參數 原理 PCSA 配置的自動回零( Auto-Nulling )圖像橢圓光度法 橢圓光度分辨率 Delta/Psi 精度 0.001 deg   絕對精度 0.01 deg (依賴于樣品與測量條件) 立體分辨率 1~35μm (平面解析精度: 1μm ,縱向解析精度: 1 nm ) 激光器波長 標準為 : 532 nm  可選 405, 488, 514, 543, 594, 633, 650, 690, 785, 830, 905, nm 靈敏度 0.05~0.2nm 解析時間 快, 22×73mm 在 1.2μm 精度下只需不到一分鐘的時間 圖像系統 768 x 572 像素 CCD 照相機 電子組件 內置基于 Pentium 芯片的控制器,帶 Matrox Meteor II 抓圖器; 內置 Linux 操作系統;通過專用 100M 以太網與主機相連 電源 電壓: 100 – 240 VAC, 50/60Hz 最大電流 : 10 A
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